Pompe moléculaire tubulaire à vide poussé à trois voies, conforme à la norme ISO 3666, débit de 600 l/s, pression limite ≤ 1,5 × 10⁻⁵ Pa

Pompe moléculaire tubulaire à vide poussé à trois voies, conforme à la norme ISO 3666, débit de 600 l/s, pression limite ≤ 1,5 × 10⁻⁵ Pa

Présentation du produit

Équipement de base pour l'ingénierie du vide et le traitement à haute température, le VET-004 s'affranchit des contraintes traditionnelles des fours monopostes et adopte une conception parallèle à trois voies : chaque four tubulaire a un diamètre de φ120 mm et sa température peut être régulée indépendamment (température ambiante - 1 200 °C). Il est équipé d'une pompe moléculaire de 600 L/s et d'une pompe à palettes rotatives de 9 L/s pour une mise sous vide rapide de la pression atmosphérique à 10⁻⁵Pa en 30 minutes. L'équipement permet la surveillance en temps réel de multiples paramètres tels que le degré de vide, la température et le débit de gaz, et intègre un système de liaison intelligent. Lorsque le degré de vide est inférieur au seuil, le mécanisme de protection s'active automatiquement pour garantir la stabilité et la répétabilité des réactions des matériaux dans des environnements à haute température. C'est un choix idéal pour les laboratoires universitaires, les centres de R&D d'entreprise et les lignes de production de précision.

Caractéristiques du produit

Traitement parallèle à trois voies : contrôlez indépendamment les fours tubulaires à trois voies, prenez en charge le fonctionnement simultané de processus avec différentes températures et degrés de vide et augmentez l'efficacité de 300 %.

Performances sous vide ultra-élevé : pompe moléculaire + pompe à palettes rotatives à échappement combiné, pression ultime ≤1,5×10⁻⁵Pa, répondant aux exigences strictes de vide du dépôt de couches minces, de la croissance cristalline, etc.

Contrôle précis de la température : chaque four tubulaire est équipé d'un contrôleur de température intelligent PID, avec une précision de contrôle de la température de ±1℃, et prend en charge le réglage libre de la vitesse de chauffage de 0 à 20℃/min.

Conception modulaire : la pompe moléculaire et la pompe à palettes rotatives peuvent être démontées pour l'entretien, et le tube du four tubulaire permet un remplacement rapide, réduisant ainsi les temps d'arrêt et les coûts de maintenance.

Système de protection de sécurité : alarme de surcharge à haute température, arrêt de verrouillage de fuite de vide et conception anti-brûlure de la coque du four pour assurer la sécurité de fonctionnement.

Adaptation de source multi-gaz : l'interface d'entrée d'air à 3 voies est réservée (prenant en charge l'argon, l'azote, l'hydrogène, etc.), compatible avec le débitmètre massique MFC pour contrôler avec précision le débit de gaz.

Norme internationale de référence

ISO 3666:2015 « Technologie du vide - Manomètre à vide - Paramètres de performance et méthodes d'étalonnage » : L'étalonnage de précision des capteurs de vide répond aux normes internationales pour garantir la fiabilité des données de pression.

ASTM E2149-13 « Méthode d'essai pour le taux de dégazage des matériaux dans des conditions de vide dynamique » : prend en charge la fonction de détection du taux de dégazage des matériaux et répond aux exigences de test de compatibilité sous vide des matériaux aérospatiaux.

IEC 61010-1:2010 « Exigences de sécurité pour les équipements électriques de mesure, de contrôle et d'utilisation en laboratoire » : Le système électrique a passé avec succès la certification de protection contre les surcharges et de détection des défauts à la terre et est conforme aux réglementations de sécurité des laboratoires.

GB/T 16800-2012 « Technologie du vide - Bride à vide ultra-élevé » : L'interface du pipeline adopte une bride à vide ultra-élevé CF35 et les performances d'étanchéité atteignent un niveau de taux de fuite de 10⁻⁹Pa・m³/s.

Utilisation du produit

Recherche en science des matériaux : croissance de nanotubes de carbone, dépôt de films de graphène, recuit sous vide d'alliages métalliques

Fabrication de semi-conducteurs : séchage sous vide au niveau des plaquettes, dégazage des puces LED avant conditionnement

Nouveau domaine énergétique : frittage de matériaux d'électrodes de batteries au lithium, synthèse sous vide d'électrolytes de batteries à l'état solide

Analyse et test : évaluation de l'activité du catalyseur (test d'adsorption/désorption de gaz sous vide)

Universités et instituts de recherche : expérience de comparaison multi-stations, enseignement de simulation d'environnement sous vide à haute température

Paramètres techniques

Objets de test et éléments de test

Objets de test

Revêtement de four tubulaire et composants d'étanchéité

Plaquettes semi-conductrices, plaquettes de silicium photovoltaïque, substrats céramiques

Matériaux en poudre nanométrique (tels que l'oxyde de graphène, les structures organométalliques MOF)

Échantillons d'alliages à haute température, échantillons de matériaux supraconducteurs

Éléments de test

Temps d'établissement du vide : temps nécessaire pour pomper de la pression atmosphérique à 10⁻³Pa/10⁻⁵Pa

Uniformité de la température : distribution axiale de la température du four tubulaire (dans les ±5℃ est qualifié)

Taux de dégazage du matériau : volume de dégazage par unité de surface de l'échantillon dans un environnement sous vide à haute température

Fiabilité de l'étanchéité : taux de fuite au niveau du raccord à bride CF (≤1×10⁻⁹Pa・m³/s)

Efficacité de la pompe moléculaire : test de stabilité du débit de pompage dans différentes plages de vide (section vide faible/vide élevé)