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Système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
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Système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

The fonction:

 

La fonction du système de dépôt chimique en phase vapeur est de déposer des films minces sur le substrat, d'améliorer les propriétés du matériau, de fabriquer des dispositifs fonctionnels, de réaliser une modification de surface, de contrôler avec précision l'épaisseur des films minces, d'améliorer la qualité du produit, d'aider à la recherche et au développement. de nouveaux matériaux, et être utilisé dans la fabrication de circuits intégrés, etc., avec les avantages d'une contrôlabilité élevée du processus, capable d'une production à grande échelle et éventuellement d'un coût inférieur.

  • Certificat :

    Calibration Certificate(cost additional)
  • Prix :

    Negotiable
  • Heure de livraison :

    30 days
  • Modalités de paiement :

    L/C, T/T
  • Marque :

    HCTE
  • Numéro de modèle :

    HCTE-VCM-003

Champ d'application :

 

Dépôt de couches minces dans l’industrie des puces semi-conductrices, l’énergie solaire photovoltaïque, les LED et d’autres industries.

 

 

Caractéristiques du produit:

Champ de distribution et d'écoulement de gaz spécialement conçu et système de contrôle automatique de la pression de réaction. Assurer l'uniformité et la stabilité du dépôt, pour répondre aux exigences de la couche active et de la couche de passivation pour le faible défaut du film mince et la bonne interface.

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