Système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

The fonction: La fonction du système de dépôt chimique en phase vapeur est de déposer des films minces sur le substrat, d'améliorer les propriétés du matériau, de fabriquer des dispositifs fonctionnels, de réaliser une modification de surface, de contrôler avec précision l'épaisseur des films minces, d'améliorer la qualité du produit, d'aider à la recherche et au développement. de nouveaux matériaux, et être utilisé dans la fabrication de circuits intégrés, etc., avec les avantages d'une contrôlabilité élevée du processus, capable d'une production à grande échelle et éventuellement d'un coût inférieur.

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